石墨坩堝真空環(huán)境下的損耗問題解析
一、石墨坩堝在真空環(huán)境下的損耗狀況
    石墨坩堝在高溫試驗中運用廣泛，首要用于對高溫資料的燒結和熔融等試驗。一般來說，在常壓條件下運用石墨坩堝，由于氣體對試驗產生的影響較小。但在高溫試驗中，石墨坩堝很容易發(fā)生氧化反響，對試驗產生干擾，因此需要在真空環(huán)境中運用。
然而，在真空環(huán)境下，石墨坩堝依然存在必定的損耗問題。具體表現為石墨坩堝外表呈現必定的燒蝕和氧化，甚至呈現開裂、變形等現象，這些都會影響試驗的準確性和重復性。
二、石墨坩堝應對辦法
    1.挑選適合的石墨資料。一般來說，石墨坩堝首要有天然石墨和人工炭素石墨兩種，而人工炭素石墨較天然石墨更適合高溫試驗。由于人工炭素石墨中金屬雜質少，氧化反響程度較低，對試驗影響較小。
    2.正確處理石墨坩堝。在試驗之前，應該對石墨坩堝進行必定的處理，如用氫氣、氬氣或氮氣等氣體流通進行預處理，以減少氧化反響；在試驗之后，應及時將石墨坩堝進行清洗和烘干。
    3.操控真空度。在運用石墨坩堝的過程中，應該對真空度進行嚴格操控，以防止氧化反響加重。一般來說，真空度應當達到10^-3Pa以下。
    4.防止溫度改變過大。溫度改變過大容易導致石墨坩堝熱脹冷縮，造成開裂、變形等問題。
    5.石墨坩堝做好符號。在試驗之前，應該對石墨坩堝進行符號，以防止不同試劑混雜或損耗問題。